Cluster Chamber真空设备系统

Cluster Chamber真空设备系统 Cluster-01

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集成多个薄膜工艺的真空设备系统,通过控制室的机械手实现基板传输。该设备系统适合光电材料和器件,先端存储器器件,和半导体材料等研究。

  超高真空(10^-8Pa)字

  国内独有系统集成技术系统内

  实现多种薄膜工艺和多层薄膜生长

Cluster